Système d'impression lithographique 3D à deux photons FIRST-CLA à l'ETH Zurich

Motifs de l’adjudication

Es ging nur ein Angebot ein, dieses erfüllt aber alle Anforderungen.

Description

La plateforme FIRST-CLA de l'ETH Zurich lance un appel d'offres pour l'achat d'un système de micro- et nanolithographie tridimensionnelle (3D) à deux photons. L'instrument sera utilisé pour :

1) l'impression 3D de structures de taille submicronique et micronique avec une résolution nanométrique et une rugosité de surface nanométrique
2) l'impression 3D de structures de l'ordre du sous-millimètre à plusieurs millimètres en XYZ avec coque/échafaudage et pièces mobiles. Le système doit permettre à l'utilisateur de passer d'une configuration à l'autre (résolution maximale, résolution inférieure mais plus rapide).
3) l'impression 3D sur différents substrats tels que des plaquettes, des puces et des fibres opaques et transparentes sans prétraitement.

Pour plus d'informations, veuillez vous référer au dossier d'appel d'offres.