Zwei-Photonen-3D-Lithografie-Drucksystem FIRST-CLA an der ETH Zürich
- N. di pubblicazione
- 28750-02
- Data di pubblicazione
- Procedura
- Procedura aperta
Motivazione dell’aggiudicazione
Es ging nur ein Angebot ein, dieses erfüllt aber alle Anforderungen.
Descrizione
Die FIRST-CLA-Plattform der ETH Zürich bittet um Angebote für den Kauf eines Zwei-Photonen-3D-Mikro- und Nanolithografiesystems. Das Gerät wird für folgende Zwecke eingesetzt:
1) 3D-Druck von Strukturen im Submikron- und Mikrometerbereich mit Nanometerauflösung und Nanometer-Oberflächenrauheit
2) 3D-Druck von Strukturen in der Größenordnung von Submillimetern bis zu mehreren Millimetern in XYZ mit Hülle/Gerüst und frei beweglichen Teilen. Das System muss es dem Benutzer ermöglichen, zwischen verschiedenen Konfigurationen zu wechseln (höchste Auflösung, geringere Auflösung, aber schneller).
3) 3D-Druck auf verschiedenen Substraten wie Wafern, Chips und Fasern opaker und transparenter Beschaffenheit ohne Vorbehandlung.
Weitere Informationen finden Sie in den Ausschreibungsunterlagen.
| Committente | ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services |
|---|---|
| Luogo | Zürich |
| Cantone | Zurigo |
| Tipo di appalto | Appalto di forniture |
| CPV | 38000000 Attrezzature da laboratorio, ottiche e di precisione (escluso vetri) |
| Soggetto ai trattati internazionali | Sì |