ICP3 Ionenätzanlage FIRST ETH Zürich

Begründung des Auftraggebers

Die Zuschlagsempfängerin hat die höchste Punktzahl aller eingereichten Angebote erzielt. Insbesondere bei den Lebenszykluskosten wie Unterhaltskosten und Energieverbrauch war ihr Angebot das beste.

Beschreibung

Lieferung einer reaktiven Ionenätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma, bestehend aus einem Gasversorgungssystem für mindestens 9 Gase, mit Prozessdruck bis 100 mtorr und Gasflüssen bis 500 sccm, RF/ICP-Generatoren im kW-Bereich mit Autotuning, spektroskopischer Überwachung des Plasmas, automatischer Ladeschleuse für schnelle Beladung, für Probengrößen ab 4 Zoll Durchmesser, mit Probentemperaturregelung im Bereich von 10 bis 300 °C.