Marché adjugé
ICP3 Installation de gravure ionique FIRST ETH Zurich
- Publication
- 4823-02
- Publié le
- 2025-03-15
- Procédure
- Procédure ouverte
482’245 EURTotal CHF
3offres reçues
ZHCanton
Adjudication1 adjudicataire
Oxford Instruments GmbH
482’245 EUR · 3 adjudications dans le registre
Motifs de l'adjudication
Die Zuschlagsempfängerin hat die höchste Punktzahl aller eingereichten Angebote erzielt. Insbesondere bei den Lebenszykluskosten wie Unterhaltskosten und Energieverbrauch war ihr Angebot das beste.
Description
Livraison d'une installation de gravure ionique réactive avec plasma à couplage inductif, comprenant un système d'alimentation en gaz pour au moins 9 gaz, avec une pression de processus jusqu'à 100 mtorr et des flux de gaz jusqu'à 500 sccm, des générateurs RF/ICP dans la gamme des kW avec autotuning, surveillance spectroscopique du plasma, sas de chargement automatique pour un chargement rapide, pour des tailles d'échantillon à partir de 4 pouces de diamètre, avec régulation de la température de l'échantillon dans la gamme de 10 à 300°C.
Publication officielle : Voir le projet 4823 sur simap.ch — seule la publication qui y figure fait foi.
Détails
| Adjudicateur | ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services |
|---|---|
| Lieu | Zürich ETH Hönggerberg |
| Canton | Zurich |
| Type de marché | Marché de fournitures |
| CPV | 38000000 Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes) |
| Soumis aux accords internationaux | Oui |