ICP3 Installation de gravure ionique FIRST ETH Zurich

Adjugé à

3 adjudications dans ce registre

Motifs de l’adjudication

Die Zuschlagsempfängerin hat die höchste Punktzahl aller eingereichten Angebote erzielt. Insbesondere bei den Lebenszykluskosten wie Unterhaltskosten und Energieverbrauch war ihr Angebot das beste.

Description

Livraison d'une installation de gravure ionique réactive avec plasma à couplage inductif, comprenant un système d'alimentation en gaz pour au moins 9 gaz, avec une pression de processus jusqu'à 100 mtorr et des flux de gaz jusqu'à 500 sccm, des générateurs RF/ICP dans la gamme des kW avec autotuning, surveillance spectroscopique du plasma, sas de chargement automatique pour un chargement rapide, pour des tailles d'échantillon à partir de 4 pouces de diamètre, avec régulation de la température de l'échantillon dans la gamme de 10 à 300°C.

Publication officielle : projet 4823 sur simap.ch – seule cette publication fait foi.

Adjudicateur	ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
Lieu	Zürich ETH Hönggerberg
Canton	Zurich
Type de marché	Marché de fournitures
CPV	38000000 Équipements de laboratoire, d’optique et de précision (excepté les lunettes)
Soumis aux accords internationaux	Oui

Adjudicateur

ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services

Lieu

Zürich ETH Hönggerberg

Canton

Zurich

Type de marché

Marché de fournitures

CPV

38000000
Équipements de laboratoire, d’optique et de précision (excepté les lunettes)

Soumis aux accords internationaux

Oui