Die Zuschlagsempfängerin hat die höchste Punktzahl aller eingereichten Angebote erzielt. Insbesondere bei den Lebenszykluskosten wie Unterhaltskosten und Energieverbrauch war ihr Angebot das beste.
Delivery of a reactive ion etching system with inductively coupled plasma, consisting of a gas supply system for at least 9 gases, with process pressure up to 100 mtorr and gas flows up to 500 sccm, RF/ICP generators in the kW range with autotuning, spectroscopic monitoring of the plasma, automatic loading lock for fast loading, for sample sizes from 4 inch diameter, with sample temperature control in the range from 10 to 300 °C.
| Contracting authority | ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services |
|---|---|
| Place | Zürich ETH Hönggerberg |
| Canton | Zürich |
| Contract type | Supply contract |
| CPV | 38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (ausser Gläser) |
| International treaty | Yes |