Appel d’offres en cours
Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
- N° de publication
- 45007-01
- Publié le
- Procédure
- Procédure ouverte
Délai de remise
Description
The B & R Nanotechnology Center (BRNC) at ETH Zurich invites tenders for the purchase of one (1) ultra-high resolution electron-beam lithography (EBL) system. The system will be used for a variety of research activities of internal and external users, ranging from the generation of high-precision structures at the nanometer level to the rapid exposure of complex structures over large areas. The scope includes delivery, installation, training and acceptance of the system.
Publication officielle : projet 45007 sur simap.ch – seule cette publication fait foi.
Détails
| Adjudicateur | ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services |
|---|---|
| Lieu | Rüschlikon |
| Canton | Zurich |
| Type de marché | Marché de fournitures |
| CPV | 38000000 Équipements de laboratoire, d’optique et de précision (excepté les lunettes) |
| Soumis aux accords internationaux | Oui |