Appalto aggiudicato
Dünnschicht-Cluster-Abscheidungssystem für das Sputtern von Metallen und Dielektrika
- N. di pubblicazione
- 7527-02
- Data di pubblicazione
- Procedura
- Procedura aperta
2’870’055 CHFImporto aggiudicatocirca 2,9 mio. CHF
6offerte ricevute
Aggiudicato a
Evatec AG
Preis inklusive der Option HiPIMS.
Motivazione dell’aggiudicazione
Die Zuschlagsempfängerin hat die höchste Gesamtpunktzahl erreicht und konnte insbesondere in den vorteilhafteren Lebenszykluskosten und in der höheren technischen Reife der angebotenen Lösung überzeugen.
Descrizione
Dünnschicht-Cluster-Beschichtungsanlage für das Sputtern von Metallen und Dielektrika Clusteranlage mit einer Schleuse und 4 Prozesskammern (PCs) für das DC- und RF-Sputtern von Dielektrika und Metallen auf Halbleiter- und anderen Substraten. Details entnehmen Sie bitte unserer Spezifikation.
Pubblicazione ufficiale: progetto n. 7527 su simap.ch. Fa fede esclusivamente quella pubblicazione.
Dettagli
| Committente | ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services |
|---|---|
| Luogo | Rüschlikon |
| Cantone | Zurigo |
| Tipo di appalto | Appalto di forniture |
| CPV | 38000000 Attrezzature da laboratorio, ottiche e di precisione (escluso vetri) |
| Soggetto ai trattati internazionali | Sì |